上海微電子光刻機在全球屬于什么水平？

　　雖然說在光刻機領域中，上海微電子一直表現比較搶眼，但在市面上出售的光刻機，卻著實有些令人感覺到差異，90nm的光刻機和荷蘭ASML的7nmEuv的區別著實有點過大了。但是，這種“憋屈”，我們現在還得承受著，這是無奈之舉。

　　我們得打破《瓦森納協定》的束縛？　　其實，我們知道，《瓦森納協定》是成了禁錮我們發展的一大不可忽視的緊箍咒，不僅僅以為主的國家，極力的阻止我們在半導體領域的發展，還通過技術管制，讓我們很難在技術中，得以進步。因為，最新的技術確實在等西方國家的技術鉗制中！　　因此，如果打破不了《瓦森納協定》的束縛，我們在光刻機方面，還是會處于不小的壓力，這才是我們必須要知道的。　　光刻機，需要多種技術的集合　　什么是光刻機？光刻機是我們在生產芯片中的重要部分，其實簡單的解釋是，將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上。因此，鏡頭、分辨率、套刻精度都非常重要。　　我們經常說的nm是什么意思呢？其實，就是光刻機在365納米光源波長下（深紫外光），單次曝光最高線寬分辨力達到多少納米。　　我們知道，光刻機的曝光系統常見光源分為:紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）等等，如今能夠在EUV中有所作為的，可能只有ASML了。其實，ASML的成功是集眾家之長，比如德國蔡司提供的鏡頭，公司供應的光源，也囊括了海力士、三星、英特爾等多家公司，因為它們是ASML的股東，這就是阿麥斯聰明之處，想優先獲得我的光刻機，就得成為我的股東。　　技術集合的困難，是我國光刻機發展的難點。其實，上海微電子的發展已經很不錯了，我覺得我們可能需要的是，換一種思路，打破國際慣例的技術限制，這就比如武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊，成功研發利用二束激光，生產9nm工藝制程的光刻機一樣，未來的限制只會被打破。