國產光刻機技術最新突破(最新消息，國產光刻機技術有了突破性的進展)

最新消息，國產光刻機技術有了突破性的進展，趕超西方指日可待！

老規矩，先說下目前科技界的新消息。

1、華為鴻蒙進展迅速，升級用戶突破1000萬，并且華為HMS生態已經成為全球第三大移動應用生態！

2、蘋果公司正在和寧德時代、比亞迪洽談電池業務，為自己造車做準備，你會支持蘋果嗎？

3、阿里平頭哥半導體推出3款基于RISC-V開發板，探索芯片架構新領域，國產芯片入局企業越來越多。

4、科益虹源在13.5nm極紫外EUVL光源上取得了突破，目前光刻機的光源主要是老美的技術，所以這下子可算是避開了這個惡心國的技術。

5、小米成立的長江基金目前已經投資了73家半導體公司，投資額大概在120億，據說近期還會加大投資力度，每筆1000萬以上。

目前來看，國產光刻機進步非常大。大家可能會擔心我們芯片會被卡脖子，其實我們國家很多應用方面都用不到7nm制程以下的芯片，我們自己都能夠生產90nm的芯片，所以大家不必太過擔心。

據媒體報道，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。雖然這與當今國際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機還有數代的隔閡，但是差距已經大大縮小。

我相信，國產光刻機的高端芯片在小米、華為、微電子等科技實力強悍的企業面前終將被攻克，中國加油，小米華為加油！